Calibrazione sputtering rate per deposizione 25 nm Pt su vetro FTO per controelettrodo. Montaggio sorgente 1" in posizione centrale. Altezza 73 mm dalla baseplate camera allo snodo. Pressione di lavoro 8 mTorr, DC 409 V 0.07 A (power 3.2 %). Evaporazione 20 min @ RT, 12 rpm. Deposizione provino su vetro con mascheratura in blue tape. Spessore effettivo misurato con profilometro: 1470 ± 20 Å, corrispondente a 1.22 Å/s reali. Per avere 25 nm occorrono quindi 3' 25". La QCM misura zero sia a shutter aperto che chiuso. Vista dalla QCM la sorgente è abbastanza angolata, ma non tanto da non leggere nulla. Da capire.
Passo successivo: sealing della cella con vetri da miscroscopio di prova.