Gli agenti chimici del laboratorio LITHO sono conservati in due armadi di sicurezza (uno per i solventi, l'altro diviso in due scomparti separati: acidi e basi) e nel frigorifero.
Qui di seguito l'elenco degli agenti chimici ammessi per l'utilizzo in laboratorio.
Le schede di sicurezza degli agenti chimici sono conservate sullo scaffale posto all'ingresso del laboratorio o consultabili online cliccando sul nome dell'agente chimico.
armadio solventi
| Nome | CAS # |
| Ethanol | 64-17-5 |
| Acetone | 67-64-1 |
| 2-propanol | 67-63-0 |
| Methanol | 67-56-1 |
| n-Butyl acetate | 123-86-4 |
| 1-Methoxy-2-propyl-acetate | 108-65-6 |
| 3-Methoxypropionitrile | 110-67-8 |
| Terpineol | 8000-41-7 |
| Tetrahydrofuran | 109-99-9 |
| Acetonitrile | 75-05-8 |
| Ethyl Cellulose | 9004-57-3 |
| Hexamethyldisilazane | 999-97-3 |
| Ethyl lactate | 97-64-3 |
| PMMA AR-P 679.01 | N.A. |
| PMMA-MA 33% AR-P 610.01 | N.A. |
| PMMA AR-P 679.04 | N.A. |
| AR 600-60 | N.A. |
| AR 600-56 | N.A. |
| AR 600-55 | N.A. |
| X AR 600-54/6 | N.A. |
| AR 300-72 | N.A. |
| SU8 photoresist | N.A. |
| Microposit remover 1165 | 872-50-4 |
| mr-Rem 660 | N.A. |
| 4-Methyl-2-Pentanone | 108-10-1 |
| Negative E-Beam Resists AR-N 7500.18 | N.A. |
| Negative Photoresist Series ma-N 1420 | N.A. |
| Developer for AR resists AR 300-47 | N.A. |
| AR 600-71 | 646-06-0 |
| Trichloroethylene | 79-01-6 |
| Chlorobenzene | 108-90-7 |
| AR 600-02 Thinner | 100-66-3 |
| Chlorotrimethylsilane | 75-77-4 |
| Sylgard 184 Silicone Elastomer Base | N.A. |
| Sylgard 184 Silicone Elastomer Curing Agent | N.A. |
armadio basi
| Nome | CAS # |
| Iodine | 7553-56-2 |
| Potassium iodide | 7681-11-0 |
| Ammonium persulfate | 7727-54-0 |
| Sodium hydroxide | 1310-73-2 |
| N719 dye | 207347-46-4 |
| Titanium(IV) oxide, anatase | 1317-70-0 |
| Titanium(IV) oxide, rutile | 1317-80-2 |
| Lithium iodide | 10377-51-2 |
| Zinc oxide | 1314-13-2 |
| Ammonium fluoride 40% | 12125-01-8 |
| Potassium hexacyanoferrate(III) | 13746-66-2 |
| Ammonium sulphide 20% | 12135-76-1 |
| Hydrogen peroxide 30% | 7722-84-1 |
| Iron(III)chloride hexahydrate | 10025-77-1 |
| Sodium nitrate | 7631-99-4 |
| Ammonia solution 30% | 1336-21-6 |
| Potassium hydroxide | 1310-58-3 |
| Microposit developer MF 321 | 75-59-2 |
| Platisol T Solaronix | N.A. |
| AZ 726 MIF developer | 75-59-2 |
| Microresist ma-D 533-S | N.A. |
| Microchem SU8 developer | N.A. |
| Electroless Nickel Plating Solution (Nickelex) | |
| Bright Electroless Gold |
armadio acidi
| Nome | CAS # |
| Sulphuric acid 96% | 7664-93-9 |
| Lithium chloride anhydrous | 7447-41-8 |
| Acetic acid | 64-19-7 |
| Ammonium sulfite monohydrate 92% | 7783-11-1 |
| Formic acid | 64-18-6 |
| Phosphoric acid 85% | 7664-38-2 |
| Hydrofluoric acid 50% | 7664-39-3 |
| Nitric acid 69% | 7697-37-2 |
| Hydrochloric acid 37% | 7647-01-0 |
| Ammonium fluoride etching mixture AF 875-125 | 70456-74-5 |
| Chromium etchant | N.A. |
| BE 7-1 + LODYNE Laporte electronic | N.A. |
| Ethylenediaminetetraacetic acid | 60-00-4 |
| Gold etchant, standard | N.A. |
frigorifero
| Nome | CAS # |
| Microposit S1813 Photo Resist | N.A. |
| Dow Corning XR-1541-002 (HSQ electron spin-on resist) | N.A. |
| All Resist SX AR-P 6200/2 | N.A. |
| MicroChemicals AZ 2070 - 3.5 um | N.A. |
| Demetron Leitsilber 200 | N.A. |
| NanoPartz Gold Nanoparticles Kit | N.A. |
| Cryophysics VARNISH | N.A. |
| Aquadag Colloidal Graphite in water | N.A. |
glove box
| Nome | CAS # |
vetrina ingresso
| Nome | CAS # |