È stato preparato un multistrato di MgO(35 nm)/Cu(50 nm)/Cr(35 nm)/MgO(001). L'MgO è stato depositato sul Cu via MBE reattivo dopo sputtering del substrato. Cu e Cr sono stati depositati via sputtering utilizzando le recenti calibrazioni. Il multistrato è stato immerso in persolfato d'ammonio 20% wt/wt per circa 3 s, quando si è riscontrata visivamente la completa rimozione dello strato di Cu. Le analisi AES e XPS rivelano ancora presenza di tracce di Cu sul campione.
Dopo una ulteriore immersione in persolfato d'ammonio per 5 s, le analisi AES e XPS rivelano la totale rimozione del film di Cu. Si osserva invece la presenza di MgO, nonostante lo spesso film di Cr. L'osservazione al SEM della superficie di Cr hanno evidenziato che il film è continuo, a meno di qualche microscopico graffio nel film nella zona centrale del campione, probabilmente responsabile del piccolo segnale di MgO.