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Misura uniformità deposizione sputtering

Deposizione 50 nm (nom) di Nb in DC, 70 W, 5 mTorr, rotazione 12 rpm, RT, sorgente centrale su vetrino microscopio. Misura spessore con profilometro e sheet resistance con 4 point probe in funzione della distanza dal bordo.

Vetrino montato su sample holder sputtering.
Vetrino dopo liftoff pennarello.
Spessore e sheet resistance vs distanza dal bordo.

Commenti: 1) misura spessore rumorosa (pulizia vetrino? spessore basso?); 2) da verificare: effetto distanza dal bordo nella misura 4 punte - probabilmente primo e ultimo punto sono da scartare.